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          當前位置:首頁   >  產品中心   >  薄膜制備全套設備  >  磁控濺射鍍膜設備

          • 膜厚監測儀--EQ-TM106

            EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理,結合先進的頻率測量技術,進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中,對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。根據實時速率可以輸出PWM模擬量,作為膜厚傳感器使用,與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制。

            訪問次數:2113
            產品價格:面議
            廠商性質:生產廠家
            更新日期:2024-02-21
          • 500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC

            VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

            訪問次數:2649
            產品價格:面議
            廠商性質:生產廠家
            更新日期:2024-02-21
          • 300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

            VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。

            訪問次數:3028
            產品價格:面議
            廠商性質:生產廠家
            更新日期:2024-02-21
          • 1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF

            VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

            訪問次數:2728
            產品價格:面議
            廠商性質:生產廠家
            更新日期:2024-02-21
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